在IC芯片制造領(lǐng)域中，等離子體清洗機(jī)處理技術(shù)已是一種常用的成熟工藝，不論在芯片源離子的注入，還是晶元的鍍膜，亦或是我們的低溫等離子體表面處理設(shè)備所能達(dá)到的：在晶元表面去除氧化膜、有機(jī)物、去掩膜等超凈化處理及表面活化提高晶元表面浸潤性。
等離子清洗機(jī)（Plasma Cleaner）又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子活化機(jī)、Plasma清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場(chǎng)合。等離子清洗機(jī)用于去除晶圓表面的particle(顆粒），徹底去除光刻膠和其他有機(jī)物、活化及粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性等
等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點(diǎn)、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機(jī)，不僅能徹底去除光刻膠等有機(jī)物，還能活化加粗晶圓表面，提高晶圓表面的浸潤性，使晶圓表面更加具有粘接力。
等離子清洗機(jī)解決了濕法去除晶圓表面光刻膠反應(yīng)不準(zhǔn)確、清洗不徹底、易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。等離子清洗機(jī)不需要有機(jī)溶劑，對(duì)環(huán)境也沒有污染，屬于低成本的綠色清洗方式
作為干法清洗等離子清洗機(jī)可控性強(qiáng)，一致性好，不僅徹底去除光刻膠有機(jī)物，等離子清洗機(jī)還活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性